三氟化镓

三氟化镓
别名 gallium trifluoride
识别
CAS号 7783-51-9  checkY
PubChem 82211
ChemSpider 74191
SMILES
 
  • F[Ga](F)F
InChI
 
  • 1/3FH.Ga/h3*1H;/q;;;+3/p-3
InChIKey WXXZSFJVAMRMPV-DFZHHIFOAM
性质
化学式 GaF3
摩尔质量 126.718 g·mol⁻¹
外观 白色粉末
密度 4.47 g/cm3
熔点 800 °C
沸点 1000°C
溶解性（水） 0.0002 g/100 mL
结构
晶体结构 三方晶系，hR24
空间群 R-3c, No. 167
危险性
欧盟分类 未列出
NFPA 704
0
3
2
 
若非注明，所有数据均出自标准状态（25 ℃，100 kPa）下。

三氟化镓（GaF3）是一种无机化合物。这种白色固体的熔点超过1000°C，但是在950°C左右就会升华。它具有FeF3型结构，镓原子为6配位。[1]三氟化镓可由F2或HF与Ga2O3反应制得，而(NH4)3GaF6的热分解也可以制得它。[2]三氟化镓几乎不溶于水。[2]蒸发GaF3和HF的混合溶液可以获得三水合物GaF3·3H2O，后者受热时水解形成碱式盐GaF2(OH)。[2]三氟化镓与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸。

轴向结构图 沿c轴结构图 Ga的配位构型 F的配位构型

参考资料

  1. ^ Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements 2nd. Oxford:Butterworth-Heinemann. 1997. ISBN 0-7506-3365-4. 
  2. ^ 2.0 2.1 2.2 Anthony John Downs, (1993), Chemistry of Aluminium, Gallium, Indium, and Thallium, Springer, ISBN 978-0-7514-0103-5

扩展阅读

  • Barrière, A.S.; Couturier, G.; Gevers, G.; Guégan, H.; Seguelond, T.; Thabti, A.; Bertault, D. Preparation and characterization of gallium(III) fluoride thin films. Thin Solid Films. 1989, 173 (2): 243. doi:10.1016/0040-6090(89)90140-5.