Fig.1 Il·lustració simplificada del gravat en sec usant fotolitografia sobre semiconductor (no està a escala).
Fotolitografia (també, litografia òptica o litografia UV), en electrònica, és un procés utilitzat en microfabricació mitjançant l'estampació fotoquímica sobre un substrat de silici anomenat oblia. La fotolitografia fa servir la llum per transferir un model geomètric extremadament petit des d'una fotomàscara a un substrat sensible a la llum. Aleshores s'hi apliquen tot un seguit de processos de deposició o gravat, Per exemple, un circuit CMOS es pot processar fins a 50 cicles fotolítics. Només pot processar superfícies planes 2D i necessita una atmosfera extremadament neta (sala blanca).[1][2][3][4]
Procediment
Fase
Descripció
Neteja
Mitjançant un tractament químic; per exemple, segons la norma RCA clean
Preparació
Es diposita l'oblia a 150 °C durant 10 minuts.
Aplicació fotoresistiva
Aplicació d'una pel·lícula fotoresistiva mitjançant centrifugació (spin coating).
Exposició i desenvolupament
Exposició de la matriu a revelar/insolar a una llum molt intensa.
Gravat
Eliminació de les parts sense insolar amb agents químics
